CMP装置 · メーカー紹介 · おすすめ3選 第3位(半導体工場の量産ラインに、スループット重視で入れるなら)
株式会社荏原製作所
量産ライン向けCMP装置F-REX型・F-REX300XA型。1テーブル1ヘッドのデュアルモジュール方式
編集部コメント量産ラインのCMPなら
向いている人 半導体工場の量産ラインで、スループットと稼働率を重視してCMP装置を比べたい場合の候補です。
確認しておきたい点 対応ウェーハサイズや膜種の数値は今回確認したページに書かれていません。F-REX型は実験開発用途の装置構成もうたいますが、卓上などの小型機は製品一覧にありません。
株式会社荏原製作所のCMP装置
荏原製作所は、ポンプや精密・電子分野の製品を手がけるメーカーで、半導体製造装置としてCMP装置、ベベル研磨装置、めっき装置を製品ページに載せています。
F-REX型は、ウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置で、ドライイン/ドライアウト、多段薬液洗浄に対応し、研磨加工終点検出モニタとインライン膜厚測定器をオプションで用意しています。F-REX300XA型は、新開発の高効率搬送機構とWPH最適化アルゴリズムを搭載し、1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式の構造を引き継いでいます。
F-REX300XA型はクロスコンタミ対策を強めたフレキシブル搬送機構と、改造やアップグレードが容易なモジュール構造を採用し、F-REX300X型比で約10%消費電力を削減したと説明しています。SEMI-S2/CEマーキングに対応します。F-REX型はプロセスチャンバー間の相互コンタミがないデュアルモジュール方式で、一方のモジュールが止まっても他方で運転を続けられ、量産だけでなく実験開発用途にも最適な装置構成を提供するとしています。対応ウェーハサイズの数値と価格は今回確認したページに記載がありませんでした。本社は東京都大田区羽田旭町にあります。
株式会社荏原製作所の特徴
F-REX型: ウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置
ドライイン/ドライアウト、多段薬液洗浄対応
研磨加工終点検出モニタ(オプション)、インライン膜厚測定器(オプション)
F-REX300XA型: 新開発の高効率搬送機構とWPH最適化アルゴリズムを搭載
高信頼性構造(1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式)
フレキシブル搬送機構と更なるクロスコンタミ対策。改造やアップグレードが容易なモジュール構造
F-REX300X型比で約10%消費電力を削減、部品点数も削減し、サプライチェーン上でのCO2排出も削減
SEMI-S2/CEマーキング対応
同カテゴリにEAC型(固定砥粒により高い研磨・除去性能、エッジコントロール機能搭載のベベル研磨装置)、UFP600AS型(高スループット、高速めっきと優れた面内均一性の両立をうたうめっき装置)
F-REX型: プロセスチャンバー間の相互コンタミがないデュアルモジュール方式。一方のモジュールが停止しても自動で他方での運転に変更でき、一台で複数のプロセス処理が可能。量産だけでなく実験開発用途にも最適な装置構成を提供と記載
主な主な装置・サービスと仕様
| 主な装置・サービスと仕様 | 種類 | 備考 |
|---|---|---|
| F-REX300XA型 | CMP装置(量産) | 1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式 |
| F-REX型 | CMP装置(量産) | クリーンルーム設置型、ドライイン/ドライアウト |
| EAC型 | ベベル研磨装置 | 固定砥粒、エッジコントロール機能 |
対応分野・事例
- 公式ページに個別の納入先の記載なし
基本情報
| 所在地 | 東京都大田区羽田旭町11-1 |
|---|---|
| 区分 | 装置メーカー |
| 装置の形態 | クリーンルーム設置型のCMP装置(ドライイン/ドライアウト) |
| 対応ウェハサイズ | |
| 研磨対象 | 記載なし(ウェーハ表面の化学的機械的研磨) |
| 研究開発・受託 | F-REX型は実験開発用途にも最適な装置構成を提供と記載。受託の記載なし |
| 価格の記載 | 記載なし |
| 公式サイト | https://www.ebara.com/jp-ja/precision/cmp/ |
まとめ
株式会社荏原製作所のCMP装置について、公式サイトの記載をもとに整理しました。条件は案件ごとに異なるため、公式サイトから直接お問い合わせください。用途別のおすすめは3選ページでも紹介しています。
株式会社荏原製作所が登場する記事
- CMP装置の種類とウェハサイズの選び方|卓上・マニュアル・フルオート・枚葉・片面研磨の違い【2026年版】 · CMP装置は、研究室向けの卓上機から、量産ラインのフルオート機まで形がさまざまです。掲載会社の公式情報から、装置の形ごとの違いと、対応ウェハサイズの読み方、選び方の順番を整理しました。
- CMP装置のしくみと構成|プラテン・研磨ヘッド・パッド・スラリー・ドレッサー・洗浄の役割【2026年版】 · CMP(化学機械研磨)は、スラリーの化学作用とパッドによる機械的な研磨を組み合わせて、ウェーハや基板の表面を平らにする技術です。掲載会社の公式情報から、装置の構成要素と、各部の違いが性能にどう効くかを整理しました。
- CMPの研磨対象別の違い|Si・SiC・サファイア・Cu・酸化膜・化合物半導体・ガラスで何が変わるか【2026年版】 · CMPは、何を磨くかで装置もスラリーも条件も変わります。掲載会社の公式情報から、基板と膜の種類ごとに、対応をうたう装置と受託の例を整理しました。
- Cu配線・TSV・ダマシンのCMP|金属膜の除去と層間の平坦化に使う装置と受託【2026年版】 · 配線の金属膜を溝に埋めて余分を削るダマシン、シリコンやガラスを貫く電極(TSV・TGV)の平坦化、層間絶縁膜の平坦化は、デバイスのCMPの中心となる用途です。掲載会社の公式情報から、使える装置と受託の実績を整理しました。
- 300mm量産ラインのCMP装置|スループット・稼働率・終点検出・洗浄で比べる量産機の選び方【2026年版】 · 半導体工場の量産ラインに入れるCMP装置は、研究用とは比べる観点が大きく違います。掲載会社の公式情報から、量産向けCMP装置と全自動ポリッシャーの特長、比べ方の観点を整理しました。
参照元
- https://www.ebara.com/jp-ja/products/FREX300XA/
- https://www.ebara.com/jp-ja/products/FREX/
- https://www.ebara.com/jp-ja/precision/cmp/
- https://www.ebara.com/jp-ja/corporate/outline/
※2026年10月1日時点の公式サイトの記載をもとに作成しています。掲載内容の訂正はこちら。
【用途別】CMP装置メーカーおすすめ3選
研究開発用の装置を、受託でプロセスを試してから選ぶなら
北川グレステック株式会社
卓上型から3インチ〜300mmのCMP実験装置まで。SiC・TSV・ダマシンの受託CMPも同じ会社で
試験・量産用のCMP装置をウェハサイズに合わせて案内し、マニュアルローディングのCMP実験装置は3インチ〜150mm/200mm/300mmをドレス機構付きでそろえる。卓上型は酸性・アルカリ性のあらゆるスラリーに対応。CMP受託加工ではプロセス開発・試作・消耗品評価を請け負い、SiCパワーデバイス、SOI、MEMS、TSV、TGV、ダマシンプロセスの実績を公式に記載。
SiC・MEMSなど8インチ以下のデバイスを、開発から量産まで同じ装置で
株式会社東京精密
小型CMP装置ChaMP211は2〜8インチの研磨ヘッドで、R&Dから試作、量産まで拡張可能。300mm機ChaMP332も
ChaMP211は量産ラインで培った技術を載せた小型のCMP装置で、SiCやMEMS、マイクロLED、SAWフィルター等のデバイスに最適と記載。2〜8インチの研磨ヘッドで同じ本体のまま異なるウェーハサイズを研磨でき、ウェーハローダと洗浄ユニットを積んでフルオート動作が可能。エアフロート式ヘッドSylphideと白色光の終点検出を備える。
半導体工場の量産ラインに、スループット重視で入れるなら
株式会社荏原製作所
F-REX300XA型は1テーブル1ヘッドのデュアルモジュール方式。終点検出とインライン膜厚測定はオプション
F-REX型はウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置で、ドライイン/ドライアウト、多段薬液洗浄に対応。F-REX300XA型は新開発の高効率搬送機構とWPH最適化アルゴリズムを搭載し、1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式、クロスコンタミ対策、改造が容易なモジュール構造を備え、F-REX300X型比で約10%の消費電力削減をうたう。