編集部の結論
開発用装置と受託なら北川グレステック、SiC・MEMSを開発から量産まで進めるなら東京精密、量産ラインなら荏原製作所。
CMPは装置だけでなく、スラリー、パッド、条件の組み合わせで結果が決まります。順位ではなく、ウェハサイズと研磨対象、必要な自動化の範囲で選んでください。共通の鉄則は、装置を決める前に受託やテスト加工で自社の材料を一度磨いてみることです。
編集部(15社の公式サイトを調査・2026年10月)
【用途別】CMP装置メーカーおすすめ3選
研究開発用の装置を、受託でプロセスを試してから選ぶなら
北川グレステック株式会社
卓上型から3インチ〜300mmのCMP実験装置まで。SiC・TSV・ダマシンの受託CMPも同じ会社で
試験・量産用のCMP装置をウェハサイズに合わせて案内し、マニュアルローディングのCMP実験装置は3インチ〜150mm/200mm/300mmをドレス機構付きでそろえる。卓上型は酸性・アルカリ性のあらゆるスラリーに対応。CMP受託加工ではプロセス開発・試作・消耗品評価を請け負い、SiCパワーデバイス、SOI、MEMS、TSV、TGV、ダマシンプロセスの実績を公式に記載。
- CMP実験装置: 3インチ〜150mm/200mm/300mm(ドレス機構付き)
- 受託CMP: SiC・SOI・MEMS・LEDサファイア、TSV・TGV・ダマシンの実績
- 千葉テクニカルセンターで実機を確認、オーダーメイドにも対応
- 区分装置メーカー+受託CMP
- 対応ウェハ・基板サイズ(公式表記)3インチ〜300mm(機種による)
- 研磨対象・用途SiC・SOI・MEMS・TSV・ダマシン
SiC・MEMSなど8インチ以下のデバイスを、開発から量産まで同じ装置で
株式会社東京精密
小型CMP装置ChaMP211は2〜8インチの研磨ヘッドで、R&Dから試作、量産まで拡張可能。300mm機ChaMP332も
ChaMP211は量産ラインで培った技術を載せた小型のCMP装置で、SiCやMEMS、マイクロLED、SAWフィルター等のデバイスに最適と記載。2〜8インチの研磨ヘッドで同じ本体のまま異なるウェーハサイズを研磨でき、ウェーハローダと洗浄ユニットを積んでフルオート動作が可能。エアフロート式ヘッドSylphideと白色光の終点検出を備える。
- ChaMP211: 2〜8インチ研磨ヘッド、SiC・MEMS・マイクロLED・SAWフィルター向け
- ウェーハローダと洗浄ユニットでフルオート、白色光の終点検出
- 300mm対応のChaMP332(エアフロート式ヘッドSylphide)
- 区分装置メーカー
- 対応ウェハ・基板サイズ(公式表記)300mm(ChaMP332)/2〜8インチ(ChaMP211)
- 研磨対象・用途先端デバイス量産/SiC・MEMS・マイクロLED
半導体工場の量産ラインに、スループット重視で入れるなら
株式会社荏原製作所
F-REX300XA型は1テーブル1ヘッドのデュアルモジュール方式。終点検出とインライン膜厚測定はオプション
F-REX型はウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置で、ドライイン/ドライアウト、多段薬液洗浄に対応。F-REX300XA型は新開発の高効率搬送機構とWPH最適化アルゴリズムを搭載し、1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式、クロスコンタミ対策、改造が容易なモジュール構造を備え、F-REX300X型比で約10%の消費電力削減をうたう。
- 1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式
- 研磨加工終点検出モニタ・インライン膜厚測定器(オプション)
- F-REX300X型比で約10%の消費電力削減
- 区分装置メーカー
- 対応ウェハ・基板サイズ(公式表記)記載なし
- 研磨対象・用途量産ラインのCMP(ドライイン/ドライアウト)
おすすめ3社の比較表
| メーカー | 区分 | 対応ウェハ・基板サイズ(公式表記) | 研磨対象・用途 | 研究開発・受託対応 | 本社 | 出典 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 北川グレステック株式会社 | 装置メーカー+受託CMP | 3インチ〜300mm(機種による) | SiC・SOI・MEMS・TSV・ダマシン | 卓上・実験装置/受託CMP・プロセス開発 | 千葉県 | 公式 2026-10-01確認 |
| 株式会社東京精密 | 装置メーカー | 300mm(ChaMP332)/2〜8インチ(ChaMP211) | 先端デバイス量産/SiC・MEMS・マイクロLED | ChaMP211はR&Dから量産へ拡張 | 東京都 | 公式 2026-10-01確認 |
| 株式会社荏原製作所 | 装置メーカー | 記載なし | 量産ラインのCMP(ドライイン/ドライアウト) | F-REX型は実験開発用途の構成も(受託の記載なし) | 東京都 | 公式 2026-10-01確認 |
※編集チーム調べ。各社公式サイトの記載をもとに作成(2026年10月調査時点)。「記載なし」は公式サイトに該当する記述が見つからなかった項目です。
CMP装置メーカーを選ぶ3つの基準
ウェハサイズと自動化の度合いで装置の形を決める
チップや4インチまでの試料を手で載せて磨くなら、Mini-LabのCMP100(最大φ100mm)やケメット・ジャパンMAT事業部の卓上型のようなマニュアル機で足ります。300mmまでの実験なら、北川グレステック、ミクロ技研、ケメット・ジャパンMAT事業部にマニュアル機があります。量産ではカセットtoカセットのフルオート機が中心で、ディスコのDFP8141(Φ200mm)、ダイトロンのMCP-302(φ300mm)がこの形です。東京精密のChaMP211もウェーハローダを積んでフルオートで動かせます。
研磨対象(膜と基板)に合う実績を確かめる
同じCMPでも、Cuや酸化膜を平らにするデバイスのCMPと、SiCやサファイアなどの基板を鏡面にする研磨では、装置も消耗品も違います。ディスコのDFP8141はサファイア、SiC、LT、LNのCMPに対応し、東京精密のChaMP211はSiCやMEMS向けとしています。北川グレステックの受託CMPはTSV、TGV、ダマシンの実績を書いています。
装置を買う前に、受託やテスト加工で試す
CMPは、スラリー、パッド、圧力、回転数の組み合わせで結果が変わります。装置を決める前に、受託やテスト加工で自社の材料を試してください。北川グレステックとケメット・ジャパンMAT事業部は装置メーカーとして受託・テスト加工を行い、マイポックスは受託研磨サービスとして試作から少量〜中量の生産まで、ティ・ディ・シーは1点から量産まで請け負います。日本エンギスはデモラボで加工条件を探すと書いています。
選定基準
2026年10月1日時点で検索「CMP装置 メーカー」「CMP装置 研究開発用 小型」「SiC ウェハ CMP 装置」「受託研磨 CMP ウェハ」等で表示された公式サイト15社(装置メーカー13社、受託研磨会社2社。商社・販売代理店、比較・マッチングサイト、研磨パッド・スラリーなど消耗品のみの会社、海外メーカーの日本法人で販売窓口のもの、CMPやウェーハ研磨の製品・サービスのページを確認できなかった会社、公式サイトの本文を取得できなかった会社は除外)を調査し、①公式サイトにCMP装置、ウェーハ・基板向けのポリッシング装置、またはCMPの受託加工のページがある ②対応ウェハサイズ、研磨対象、装置の形態のいずれかの記載がある ③研究開発向けの機種、テスト加工・デモ、受託、量産向けの機能などの記載がある、の3点を満たす中から、開発用装置と受託、SiC・MEMSの開発から量産、量産ラインの用途別に3社を選定しています。
おすすめ3社を詳しく紹介
1北川グレステック株式会社
研究開発用の装置を、受託でプロセスを試してから選ぶなら
卓上型から3インチ〜300mmのCMP実験装置まで。SiC・TSV・ダマシンの受託CMPも同じ会社で
おすすめの理由
試験・量産用のCMP装置をウェハサイズに合わせて案内し、マニュアルローディングのCMP実験装置は3インチ〜150mm/200mm/300mmをドレス機構付きでそろえる。卓上型は酸性・アルカリ性のあらゆるスラリーに対応。CMP受託加工ではプロセス開発・試作・消耗品評価を請け負い、SiCパワーデバイス、SOI、MEMS、TSV、TGV、ダマシンプロセスの実績を公式に記載。
大学や企業の開発部門で、初めてCMP装置を入れる、あるいは新しい材料のCMPを立ち上げるなら、北川グレステックに相談してください。理由は、装置を買う前に受託CMPでプロセスや消耗品を試し、その結果を見てから同じ会社の装置を選べることです。卓上型、マニュアルローディングの実験装置、研磨と洗浄が一体のDry-In/Dry-Out装置まで段階があり、千葉テクニカルセンターで実機を見られます。研削加工やポストCMP洗浄も受託しています。
決め手
- CMP実験装置: 3インチ〜150mm/200mm/300mm(ドレス機構付き)
- 受託CMP: SiC・SOI・MEMS・LEDサファイア、TSV・TGV・ダマシンの実績
- 千葉テクニカルセンターで実機を確認、オーダーメイドにも対応
向かない人
装置の詳しい仕様と価格は問い合わせでの確認です。300mmの量産ラインに入れるフルオートの量産機を探しているなら、荏原製作所や東京精密と比べてください。
編集部評価
| 研究開発(小型機) | ●●●●●5/5 |
|---|---|
| 量産(300mm) | ●●○○○2/5 |
| SiC・硬脆材料 | ●●●●○4/5 |
| 受託・テスト加工 | ●●●●●5/5 |
| 仕様の公開度 | ●●●○○3/5 |
※編集部評価は、上の選定基準と各社公式サイトの記載をもとにした5段階の目安です。
特徴
- 試験・量産用のCMP装置をウェハサイズに合わせて案内。オーダーメイドにも対応。テクニカルセンターで実機を見学可能
- 卓上型CMP装置: コンパクトながらCMP全般の試験に最適。酸性・アルカリ性のあらゆるスラリーに対応
- マニュアルローディングCMP実験装置: 3インチ-150mm、3インチ〜200mm、3インチ〜300mmの各ウェハに対応。ドレス機構搭載
- 研磨機と洗浄機が一体化されたDry-In/Dry-Out装置
- CMP受託加工: CMPのプロセス開発や試作、消耗品評価用加工。SiCパワーデバイス、SOI、MEMS、光学系デバイス、LEDサファイアなどに対応
- TSV(Si貫通電極)、TGV(ガラス貫通電極)、ダマシンプロセスの実績
- 貫通メタル配線: 基板に形成されたビアに金属が充填された表面を平坦化し、高密度実装を実現
- 受託の対象膜: Au、Cu、Ti、樹脂など(金属等膜材料)、SiO2、SiNなど(層間膜)。基板はSi、セラミック、ガラスなど
- 受託の保有設備: CMP装置ARW-8C1MS(3インチ〜12インチ(300mm))、BC-15CN(チップ、2〜6インチ(150mm)、卓上型)、ARW-681MSⅡ(〜8インチ(200mm))、研削装置GYR-300(小片〜12インチ(300mm))、洗浄機ZAB-8S1M(〜8インチ(200mm))
- CMP加工のほか、研削加工やポストCMP洗浄も受託加工サービスとして対応
- CMPの説明: 研磨パッドに研磨スラリーを滴下し、研磨ヘッドに取り付けた加工物に力を与えて表面を研磨。主にベアウェーハのÅレベルの鏡面化やデバイス基板の平坦化、配線材の埋め込みなどで採用
- ベアウェーハの原料はシリコンが主流だが、セラミクスやSiC、GaNなどの需要も増えていると記載
- 多層配線を行う半導体製造において、段差や層間膜の高精度な平坦化は必要不可欠と説明
- マニュアルローディングCMP実験装置の型式: ARW-461M(3インチ〜150mm)、ARW-681MSⅡ(3インチ〜200mm)、ARW-8C1MS(3インチ〜300mm)。Dry-In/Dry-Out装置はARW-681A。事業所に青梅テクニカルセンターもある
主な主な装置・サービスと仕様
| 主な装置・サービスと仕様 | 種類 | 備考 |
|---|---|---|
| 卓上型CMP装置 | CMP試験用 | 酸性・アルカリ性のスラリーに対応 |
| マニュアルローディングCMP実験装置 | 研究開発用 | 3インチ〜150mm/200mm/300mm |
| Dry-In/Dry-Out CMP装置 | 研磨機・洗浄機一体 | |
| 半導体CMP受託加工サービス | 受託加工 | プロセス開発・試作・請負加工 |
対応分野・事例
- 受託の実績分野: SiCパワーデバイス、SOI、MEMS、光学系デバイス、LEDサファイア、TSV、TGV、ダマシンプロセス(公式記載)
基本情報
| 所在地 | 千葉県千葉市花見川区犢橋町1614-27(本社/千葉テクニカルセンター) |
|---|---|
| 区分 | 装置メーカー(受託CMPも実施) |
| 装置の形態 | 卓上型、マニュアルローディング実験装置、Dry-In/Dry-Out装置 |
| 対応ウェハサイズ | 3インチ〜300mm(機種による) |
| 研磨対象 | SiC、SOI、MEMS、光学系デバイス、LEDサファイア、Cu・SiO2・SiN膜など |
| 研究開発・受託 | CMP受託加工(プロセス開発・試作・消耗品評価)、テクニカルセンターで実機確認 |
| 価格の記載 | 記載なし(見積) |
2株式会社東京精密
SiC・MEMSなど8インチ以下のデバイスを、開発から量産まで同じ装置で
小型CMP装置ChaMP211は2〜8インチの研磨ヘッドで、R&Dから試作、量産まで拡張可能。300mm機ChaMP332も
おすすめの理由
ChaMP211は量産ラインで培った技術を載せた小型のCMP装置で、SiCやMEMS、マイクロLED、SAWフィルター等のデバイスに最適と記載。2〜8インチの研磨ヘッドで同じ本体のまま異なるウェーハサイズを研磨でき、ウェーハローダと洗浄ユニットを積んでフルオート動作が可能。エアフロート式ヘッドSylphideと白色光の終点検出を備える。
SiCパワーデバイスやMEMSのように6〜8インチ以下のウェーハで、研究開発から試作、量産まで進めたいなら東京精密を見てください。ChaMP211は装置仕様を要望に応じて変えられ、R&Dから量産まで拡張できると書いています。研磨ヘッドを替えれば同じ本体で2〜8インチを扱えるため、開発中にウェーハサイズが変わっても装置を入れ替えずに済みます。300mmの量産向けにはChaMP332があり、エアフィルムで加圧するヘッドで低圧領域での制御性をうたっています。
決め手
- ChaMP211: 2〜8インチ研磨ヘッド、SiC・MEMS・マイクロLED・SAWフィルター向け
- ウェーハローダと洗浄ユニットでフルオート、白色光の終点検出
- 300mm対応のChaMP332(エアフロート式ヘッドSylphide)
向かない人
受託研磨やテスト研磨の案内は今回確認したページにありません。装置の導入前にプロセスを外で試したいなら、北川グレステックやマイポックスの受託を先に使ってください。価格の記載もありません。
編集部評価
| 研究開発(小型機) | ●●●●○4/5 |
|---|---|
| 量産(300mm) | ●●●●○4/5 |
| SiC・硬脆材料 | ●●●●●5/5 |
| 受託・テスト加工 | ●○○○○1/5 |
| 仕様の公開度 | ●●●○○3/5 |
※編集部評価は、上の選定基準と各社公式サイトの記載をもとにした5段階の目安です。
特徴
- ChaMP332: 先端デバイスのプロセス性能と量産工場の要求に応えた300mmウェーハ対応CMP装置
- エアフロート式ヘッド Sylphide: エアフィルムによる均一な加圧で表面基準研磨。低圧領域での制御性、安定性が良好。ゾーン制御はオプション
- 研磨ヘッドのリテーナ交換手順を公開し、メンテナンスの容易さをうたう
- ChaMP211: 半導体デバイス量産ラインで培った高性能CMP技術を搭載した小型のCMP装置
- ChaMP211: SiCやMEMS、マイクロLED、SAWフィルター等のデバイスに最適と記載
- ChaMP211: 2〜8インチ研磨ヘッドを提供可能。同じボディ上で異なるウェーハサイズの研磨が可能
- ChaMP211: ウェーハローダ搭載でフルオート動作、洗浄ユニット搭載で精密洗浄が可能。R&Dから試作、量産まで拡張可能
- Optical End-Point Detection System: 白色光源と特殊アルゴリズムで残膜変化を検出
- 関連製品: ポリッシュ・グラインダは各種デバイスウェーハの薄片化とダメージ除去を1台で行い、積層メモリやFO/2.5D/3Dといった先端アドバンスドパッケージの研削・研磨加工にも貢献と記載。エッジグラインディングマシンW-GMシリーズはシリコン、サファイア、SiCなど多種材料のウェーハ外周部面取り
- ChaMP211: エアフィルムと独立したエアバッグで低圧での安定性、独立したリテーナ加圧エアバッグで良好なエッジプロファイル制御。リテーナ・メンブレンのワンタッチ交換
主な主な装置・サービスと仕様
| 主な装置・サービスと仕様 | 種類 | 備考 |
|---|---|---|
| ChaMP332 | CMP装置 | 300mmウェーハ対応 |
| ChaMP211 | 小型CMP装置 | 2〜8インチ研磨ヘッド。SiC、MEMS、マイクロLED、SAWフィルター向け |
| ポリッシュ・グラインダ | 薄片化とダメージ除去の装置 | 関連製品 |
対応分野・事例
- 公式ページに個別の納入先の記載なし
基本情報
| 所在地 | 東京都八王子市石川町2968-2 |
|---|---|
| 区分 | 装置メーカー |
| 装置の形態 | ChaMP332(300mm)、ChaMP211(小型・フルオート) |
| 対応ウェハサイズ | ChaMP332: 300mm/ChaMP211: 2〜8インチ研磨ヘッド |
| 研磨対象 | ChaMP211はSiC、MEMS、マイクロLED、SAWフィルター等のデバイス向け |
| 研究開発・受託 | ChaMP211はR&Dから試作、量産まで拡張可能 |
| 価格の記載 | 記載なし |
3株式会社荏原製作所
半導体工場の量産ラインに、スループット重視で入れるなら
F-REX300XA型は1テーブル1ヘッドのデュアルモジュール方式。終点検出とインライン膜厚測定はオプション
おすすめの理由
F-REX型はウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置で、ドライイン/ドライアウト、多段薬液洗浄に対応。F-REX300XA型は新開発の高効率搬送機構とWPH最適化アルゴリズムを搭載し、1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式、クロスコンタミ対策、改造が容易なモジュール構造を備え、F-REX300X型比で約10%の消費電力削減をうたう。
半導体工場の量産ラインに入れるCMP装置を比べるなら、荏原製作所が候補の一つです。F-REX300XA型は、1つのテーブルに1つのヘッドを組むデュアルモジュール方式を引き継ぎつつ、搬送機構とWPH(1時間あたりの処理枚数)の最適化で生産性を上げたと説明しています。研磨の終点を見つけるモニタとインラインの膜厚測定器をオプションで載せられ、モジュール構造で後からの機能追加もしやすくしています。SEMI-S2とCEマーキングに対応します。
決め手
- 1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式
- 研磨加工終点検出モニタ・インライン膜厚測定器(オプション)
- F-REX300X型比で約10%の消費電力削減
向かない人
対応ウェーハサイズや膜種の数値は今回確認したページに書かれていません。F-REX型は実験開発用途の装置構成もうたいますが、卓上などの小型機やテスト研磨の案内はないため、開発段階なら北川グレステックや東京精密のChaMP211を先に見てください。
編集部評価
| 研究開発(小型機) | ●○○○○1/5 |
|---|---|
| 量産(300mm) | ●●●●●5/5 |
| SiC・硬脆材料 | ●●○○○2/5 |
| 受託・テスト加工 | ●○○○○1/5 |
| 仕様の公開度 | ●●○○○2/5 |
※編集部評価は、上の選定基準と各社公式サイトの記載をもとにした5段階の目安です。
特徴
- F-REX型: ウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置
- ドライイン/ドライアウト、多段薬液洗浄対応
- 研磨加工終点検出モニタ(オプション)、インライン膜厚測定器(オプション)
- F-REX300XA型: 新開発の高効率搬送機構とWPH最適化アルゴリズムを搭載
- 高信頼性構造(1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式)
- フレキシブル搬送機構と更なるクロスコンタミ対策。改造やアップグレードが容易なモジュール構造
- F-REX300X型比で約10%消費電力を削減、部品点数も削減し、サプライチェーン上でのCO2排出も削減
- SEMI-S2/CEマーキング対応
- 同カテゴリにEAC型(固定砥粒により高い研磨・除去性能、エッジコントロール機能搭載のベベル研磨装置)、UFP600AS型(高スループット、高速めっきと優れた面内均一性の両立をうたうめっき装置)
- F-REX型: プロセスチャンバー間の相互コンタミがないデュアルモジュール方式。一方のモジュールが停止しても自動で他方での運転に変更でき、一台で複数のプロセス処理が可能。量産だけでなく実験開発用途にも最適な装置構成を提供と記載
主な主な装置・サービスと仕様
| 主な装置・サービスと仕様 | 種類 | 備考 |
|---|---|---|
| F-REX300XA型 | CMP装置(量産) | 1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式 |
| F-REX型 | CMP装置(量産) | クリーンルーム設置型、ドライイン/ドライアウト |
| EAC型 | ベベル研磨装置 | 固定砥粒、エッジコントロール機能 |
対応分野・事例
- 公式ページに個別の納入先の記載なし
基本情報
| 所在地 | 東京都大田区羽田旭町11-1 |
|---|---|
| 区分 | 装置メーカー |
| 装置の形態 | クリーンルーム設置型のCMP装置(ドライイン/ドライアウト) |
| 対応ウェハサイズ | |
| 研磨対象 | 記載なし(ウェーハ表面の化学的機械的研磨) |
| 研究開発・受託 | F-REX型は実験開発用途にも最適な装置構成を提供と記載。受託の記載なし |
| 価格の記載 | 記載なし |
自社の材料に合うCMP装置・受託先を、無料で相談する
研磨したい材料(基板・膜)、ウェハや試料のサイズ、目標の表面粗さや平坦度、処理枚数、装置の購入か受託か、使う場所(研究室・クリーンルーム)を送っていただくと、編集チームが条件に合う掲載会社へ匿名で概要を伝え、見積やテスト加工の窓口をおつなぎします。費用はかかりません。
CMP装置の基礎知識
CMP装置のしくみ、ウェハサイズと装置の形の選び方、Si・SiC・Cu・酸化膜など研磨対象ごとの違い、受託研磨とテスト加工の頼み方まで、見積を取る前に知っておきたいことをまとめています。
- CMPの受託研磨・テスト加工の頼み方|装置メーカーと受託研磨会社の違い、依頼の流れと準備【2026年版】装置を買う前に、受託やテスト加工でCMPを試す方法があります。掲載会社の公式情報から、受託・テスト加工を行う会社の違い、依頼の流れ、伝えるべき条件を整理しました。
- CMP装置の種類とウェハサイズの選び方|卓上・マニュアル・フルオート・枚葉・片面研磨の違い【2026年版】CMP装置は、研究室向けの卓上機から、量産ラインのフルオート機まで形がさまざまです。掲載会社の公式情報から、装置の形ごとの違いと、対応ウェハサイズの読み方、選び方の順番を整理しました。
- CMP装置のしくみと構成|プラテン・研磨ヘッド・パッド・スラリー・ドレッサー・洗浄の役割【2026年版】CMP(化学機械研磨)は、スラリーの化学作用とパッドによる機械的な研磨を組み合わせて、ウェーハや基板の表面を平らにする技術です。掲載会社の公式情報から、装置の構成要素と、各部の違いが性能にどう効くかを整理しました。
- CMPの研磨対象別の違い|Si・SiC・サファイア・Cu・酸化膜・化合物半導体・ガラスで何が変わるか【2026年版】CMPは、何を磨くかで装置もスラリーも条件も変わります。掲載会社の公式情報から、基板と膜の種類ごとに、対応をうたう装置と受託の例を整理しました。
用途・材料別に探す
ベアウェーハ・基板の鏡面研磨に使う装置と受託|片面研磨・枚葉研磨・ラッピングの選び方【2026年版】
シリコンなどのベアウェーハや、セラミックス・ガラスの基板を鏡面に仕上げる工程では、片面研磨装置、枚葉研磨装置、ラッピング装置が使われます。掲載会社の公式情報から、装置と受託の選び方を整理しました。
Cu配線・TSV・ダマシンのCMP|金属膜の除去と層間の平坦化に使う装置と受託【2026年版】
配線の金属膜を溝に埋めて余分を削るダマシン、シリコンやガラスを貫く電極(TSV・TGV)の平坦化、層間絶縁膜の平坦化は、デバイスのCMPの中心となる用途です。掲載会社の公式情報から、使える装置と受託の実績を整理しました。
300mm量産ラインのCMP装置|スループット・稼働率・終点検出・洗浄で比べる量産機の選び方【2026年版】
半導体工場の量産ラインに入れるCMP装置は、研究用とは比べる観点が大きく違います。掲載会社の公式情報から、量産向けCMP装置と全自動ポリッシャーの特長、比べ方の観点を整理しました。
MEMSと接合前の平滑化に使うCMP|原子レベルの表面と異種材料の貼り合わせに向けた装置と受託【2026年版】
MEMSや、異なる材料のウェーハを貼り合わせる接合では、接合面を極めて平滑に仕上げる必要があります。掲載会社の公式情報から、接合前のCMPの事例、装置、受託の選び方を整理しました。
SiC・サファイア・LT/LNなど硬脆材料のCMP|装置と受託の選び方、研削からの一貫工程【2026年版】
SiCやサファイア、LT・LNは、硬くて割れやすく、CMPでも時間と手間がかかる材料です。掲載会社の公式情報から、硬脆材料に対応する装置、受託の事例、研削からCMPまでの工程のつなぎ方を整理しました。
大学・研究室で使う小型CMP装置|卓上機・R&D用マニュアル機の選び方と導入前の準備【2026年版】
大学や企業の研究室でCMPを始めるなら、卓上機やR&D用のマニュアル機が候補になります。掲載会社の公式情報から、対応サイズ、加圧やドレッシングの機能、デモやテスト加工の窓口、設置の準備を整理しました。
新着・更新記事
- 大学・研究室で使う小型CMP装置|卓上機・R&D用マニュアル機の選び方と導入前の準備【2026年版】用途別 · 大学や企業の研究室でCMPを始めるなら、卓上機やR&D用のマニュアル機が候補になります。掲載会社の公式情報から、対応サイズ、加圧やドレッシングの機能、デモやテスト加工の窓口、設置の準備を整理しました。2026年10月1日
- SiC・サファイア・LT/LNなど硬脆材料のCMP|装置と受託の選び方、研削からの一貫工程【2026年版】用途別 · SiCやサファイア、LT・LNは、硬くて割れやすく、CMPでも時間と手間がかかる材料です。掲載会社の公式情報から、硬脆材料に対応する装置、受託の事例、研削からCMPまでの工程のつなぎ方を整理しました。2026年10月1日
- MEMSと接合前の平滑化に使うCMP|原子レベルの表面と異種材料の貼り合わせに向けた装置と受託【2026年版】用途別 · MEMSや、異なる材料のウェーハを貼り合わせる接合では、接合面を極めて平滑に仕上げる必要があります。掲載会社の公式情報から、接合前のCMPの事例、装置、受託の選び方を整理しました。2026年10月1日
- 300mm量産ラインのCMP装置|スループット・稼働率・終点検出・洗浄で比べる量産機の選び方【2026年版】用途別 · 半導体工場の量産ラインに入れるCMP装置は、研究用とは比べる観点が大きく違います。掲載会社の公式情報から、量産向けCMP装置と全自動ポリッシャーの特長、比べ方の観点を整理しました。2026年10月1日
- Cu配線・TSV・ダマシンのCMP|金属膜の除去と層間の平坦化に使う装置と受託【2026年版】用途別 · 配線の金属膜を溝に埋めて余分を削るダマシン、シリコンやガラスを貫く電極(TSV・TGV)の平坦化、層間絶縁膜の平坦化は、デバイスのCMPの中心となる用途です。掲載会社の公式情報から、使える装置と受託の実績を整理しました。2026年10月1日
- ベアウェーハ・基板の鏡面研磨に使う装置と受託|片面研磨・枚葉研磨・ラッピングの選び方【2026年版】用途別 · シリコンなどのベアウェーハや、セラミックス・ガラスの基板を鏡面に仕上げる工程では、片面研磨装置、枚葉研磨装置、ラッピング装置が使われます。掲載会社の公式情報から、装置と受託の選び方を整理しました。2026年10月1日
CMP装置メーカー一覧【15社】
調査日時点で、公式サイトにCMP装置、ウェーハ・基板向けのポリッシング装置、またはCMPの受託加工のページを確認できた会社を掲載しています。装置メーカー13社と受託研磨会社2社(マイポックス、ティ・ディ・シー)で、受託研磨会社は会社名の紹介に【受託研磨】と区分を付けています。商社・販売代理店、消耗品のみの会社、比較・マッチングサイトは一覧から外しています。
- 株式会社東京精密SiC・MEMSを開発から量産まで
- ダイトロン株式会社300mmベアウェーハの枚葉研磨
- 株式会社ディスコ硬脆材料を全自動で
- 株式会社荏原製作所量産ラインのCMPなら
- 日本エンギス株式会社化合物半導体の薄化なら
- ケメット・ジャパン株式会社 MAT事業部(エム・エー・ティ)チップ・小片からの実験なら
- 北川グレステック株式会社開発用装置と受託を一社で
- ラップジャパン株式会社消耗品評価の卓上機なら
- ミクロ技研株式会社300mmまでのR&D機なら
- Mini-Lab株式会社4インチまでの小型機なら
- マイポックス株式会社受託でまず試すなら
- ムサシノ電子株式会社研究室の試料研磨なら
- 株式会社岡本工作機械製作所研削から仕上げポリッシュまで
- スピードファム株式会社ベアウェーハの片面研磨なら
- 株式会社ティ・ディ・シー接合前の平滑化を1点から
目的別のほかの比較
- クリーンブース必要なのはクラス10,000程度の防塵なのか、ISO5の層流なのか。来週には使いたいのか、防爆や空調付きの特注なのか。あとで広げたり移したりするのか。クリーンブース(簡易クリーンルーム)は、この組み合わせで構造もメーカーも変わります。国内20社の公式サイトを調べて19社を掲載し、用途ごとに最初に相談すべき3社を選びました。
- 位置決めステージ動かしたいのは数ミリなのか数百ミリなのか。繰返し精度はマイクロメートルで足りるのか、ナノメートルが要るのか。大気中で使うのか、真空チャンバーやクリーンルームの中なのか。位置決めステージはこの組み合わせで駆動方式もメーカーも変わります。国内15社の公式サイトを調べ、用途ごとに最初に相談すべき3社を選びました。
- 3Dマシンビジョン部品箱からロボットで部品を取り出したいのか、ラインを流れる製品の高さや傷を全数で測りたいのか。3Dマシンビジョンは、この目的でパターン投影、光切断、ステレオ、光コムなどの方式も、選ぶ会社も変わります。国内に拠点のあるメーカー・販社15社の公式サイトを調べ、用途ごとに最初に相談すべき3社を選びました。
よくある質問
CMP装置の価格はいくらくらいですか?
今回調査した装置メーカー13社で、製品ページに装置の価格を載せている会社はありませんでした。研究開発用のマニュアル機と量産用のフルオート機では構成が大きく違うため、ウェハサイズ、研磨対象、必要な自動化の範囲を書いて見積を依頼してください。
研究室で使える小型のCMP装置はありますか?
あります。Mini-LabのCMP100はウエハ最大径φ100mmのR&D用セミオート機です。ラップジャパンのLM-15は卓上型、ミクロ技研はφ100・200・300mmのR&D用マニュアル機、北川グレステックとケメット・ジャパンMAT事業部は卓上型から300mmまでの実験装置をそろえています。
SiCやサファイアのCMPに向いた装置は?
ディスコのDFP8141はサファイアやSiCなど硬脆材料の加工に特化したΦ200mm対応のCMPポリッシャで、カセットtoカセットの全自動です。東京精密のChaMP211はSiC、MEMS、マイクロLED、SAWフィルター向けの小型CMP装置です。受託では北川グレステックがSiCパワーデバイス、ティ・ディ・シーがSiCウエハ(表面粗さRa0.1nm以下の事例)を挙げています。
装置を買わずにCMPを外注できますか?
できます。マイポックスは、CMP装置で12〜4インチ(3インチ以下はマニュアル対応)、片面ポリシングで小片(チップ)まで扱い、平面研磨から絶縁膜・メタル膜・樹脂膜のCMPを受託し、試作から少量〜中量の生産、技術移管まで対応します。ティ・ディ・シーは1点から量産まで、北川グレステックはプロセス開発・試作・消耗品評価の受託、ケメット・ジャパンMAT事業部は自社ラボでのテスト加工を行っています。
300mmの量産ライン向けのCMP装置はどこですか?
今回の調査では、東京精密が300mmウェーハ対応のChaMP332を、荏原製作所が量産向けのF-REX型・F-REX300XA型を製品ページに載せています。荏原製作所のページには対応ウェーハサイズの数値がないため、問い合わせで確認してください。