3比較ハブCMP装置

CMP装置 · 用途別

大学・研究室で使う小型CMP装置｜卓上機・R&D用マニュアル機の選び方と導入前の準備【2026年版】

大学や企業の研究室でCMPを始めるなら、卓上機やR&D用のマニュアル機が候補になります。掲載会社の公式情報から、対応サイズ、加圧やドレッシングの機能、デモやテスト加工の窓口、設置の準備を整理しました。

公開 2026年10月1日

研究室でのCMPは、量産とは目的が違います。決まった条件で大量に磨くのではなく、スラリーや圧力を変えながら、新しい材料やプロセスの答えを探すのが仕事です。

この記事では、研究室に入れる小型のCMP装置を、掲載会社の公式情報で比べます。

研究室向けの装置を一覧で比べる

まず、研究開発用として公式に紹介されている装置を並べます。対応サイズと形を見ると、候補が絞れます。

会社装置対応サイズ・特長（公式記載）
Mini-LabCMP100ウエハ最大径φ100mm。R&D用セミオート
ラップジャパンLM-15-SⅠ／SⅡ、LM-24-CMPLM-15は卓上型、LM-24はΦ4"・Φ6"・Φ8"
ミクロ技研MGP-15S-Ⅰ/Ⅱ、MGP-612、MGP-712φ100mm、φ200mm、φ300mmのR&D用マニュアル
ケメット・ジャパンMAT事業部BC-15CNほかチップサイズ〜φ300mmのCMP実験装置
北川グレステック卓上型、マニュアルローディングCMP実験装置3インチ〜150mm／200mm／300mm
ムサシノ電子精密研磨装置MAシリーズ研磨盤と研磨剤の選び方でCMPまで対応

大学の研究では4インチ以下やチップで足りることも多く、その場合は卓上機で十分です。企業の開発で量産のウェーハサイズに合わせたいなら、200mmや300mmに対応する機種を選びます。

研究で大事な機能

研究用の装置では、条件を細かく変えられることと、その条件を再現できることが大事です。各社が書いている機能を並べます。

  • ミクロ技研: 5ステップ、10メモリーのレシピ設定。加工中にドレッシングできる2軸タイプ。各ヘッドで回転数と加圧を設定
  • ラップジャパン LM-15: オシレーション、強制ドライブ駆動、低摩擦シリンダーの精密加圧、多段階のレシピ
  • Mini-Lab CMP100: 一次ポリッシュ、二次ポリッシュ、リンスの3プロセス。特別仕様でタッチパネルと複数レシピに対応
  • 北川グレステック 卓上型: 酸性・アルカリ性のあらゆるスラリーに対応

研究では、スラリーを替える実験が多くなります。酸やアルカリへの耐性と、テーブル周りの耐薬品の処理を確かめてください。

Mini-LabのCMP100は、テーブルの桶周りに耐薬品コーティングをしていると書いています。北川グレステックの卓上型のように、対応するスラリーの範囲を明記している機種もあります。

スラリー・パッド・ドレッサーの研究に使う

CMPの研究には、装置そのものではなく、消耗品を評価する研究もあります。消耗品の評価を目的に挙げている装置があります。

会社公式記載の内容
ラップジャパン LM-15CMPスラリー、パッド、ダイヤモンドドレッサー等の研究開発装置として最適
ミクロ技研スラリーやポリッシングパッド、各種基板の評価に最適
ケメット・ジャパンMAT事業部研磨パッドやスラリー、洗浄剤、研削砥石など消耗部材の開発・試作テスト
北川グレステック消耗品評価用加工を受託

消耗品の評価では、装置の個体差が結果に混ざらないようにすることが大事です。同じ装置で比べる前提で、条件の記録の仕方を決めておいてください。

結晶や小さな試料を磨く

ウェーハではなく、結晶の切れ端や小さな試料を磨く研究もあります。試料研磨の装置でCMPまで行う方法が向きます。

  • ムサシノ電子: 試料保持ユニットと試料ホルダーを選び、多様な形状のサンプルを研磨。標準で合わない異形は特注品で対応
  • ムサシノ電子: X線回折装置に取り付けられる二軸ゴニオメータ付き治具で、結晶方位を修正しながら研磨
  • ムサシノ電子: 半導体、セラミックス、光通信などの研究開発分野で多くの納入実績と記載
  • ケメット・ジャパンMAT事業部 BC-15CN: 試料研磨機をベースにしたチップ基板対応のCMP実験装置

結晶の方位を合わせて磨く研究なら、治具の選択肢が多い会社を選んでください。小さな試料は、保持の仕方で結果が大きく変わります。

開発から量産まで同じ流れで進めたい場合

企業の開発部門では、研究の結果をそのまま量産に持っていきたいことがあります。研究用と量産用の装置で条件を引き継ぎやすい組み合わせがあります。

  • 東京精密 ChaMP211: 量産ラインで培った技術を載せた小型CMP装置。R&Dから試作、量産まで拡張可能
  • 北川グレステック: 試験用と量産用のCMP装置をウェハサイズに合わせて案内
  • ラップジャパン: 卓上式小型CMP装置は中型・大型と同様の加工要素機能を備えると記載

研究で決めた条件が量産機で再現できないと、やり直しになります。研究用の装置を選ぶ段階で、量産のときにどの装置を使うかも考えておいてください。

デモとテスト加工の窓口

研究室の予算で装置を買うなら、事前に実機を見て、試しておきたいところです。公式に窓口を案内している会社を並べます。

会社窓口（公式記載）
ミクロ技研デモンストレーションの案内、資料請求フォーム
北川グレステック千葉テクニカルセンターで実機を見学。受託でプロセス開発・試作
ケメット・ジャパンMAT事業部当社ラボでのテスト加工
日本エンギス測定設備を完備したデモラボで加工条件を検討
ティ・ディ・シーサイトに大学・研究機関への納品実績一覧のページ

装置を買うまでのつなぎとして、受託で試料を磨いてもらう方法もあります。研究の締め切りが近い場合は、受託を先に使ってください。

研究室に置くための準備

小型機でも、CMP装置は電源、純水、圧縮空気、排水を使います。研究室の設備で足りるかを先に確かめます。

項目Mini-Lab CMP100の公式記載（例）
電源3相200V
圧縮空気クリーンドライエアー5.0kg/c㎡以上
純水1.5kg/c㎡以上
冷却恒温水循環装置（チラー）は別途オプション
スラリー供給ローラーポンプ（ノズル2本、ポンプは別途オプション）

3相の電源や純水の配管がない研究室もあります。建物の設備担当と相談し、工事の時間と費用も見込んでおいてください。

装置の重さと大きさも確かめてください。机の上に置く卓上機でも、専用の台や防水の受け皿が要ることがあります。

研究室での運用で気をつけること

研究室では、使う人が入れ替わり、使う頻度にも波があります。量産の工場とは違う運用の注意があります。

  • スラリーは固まりやすいので、使い終わったらすぐに配管とテーブルを洗う
  • パッドの交換時期と、ドレッシングの条件を記録に残す
  • 研磨条件と結果を、装置ごとのノートやデータで引き継ぐ
  • 廃液の扱いを、学内や社内の決まりに合わせて決めておく

ティ・ディ・シーは、研磨剤は固まりやすいため、研磨の終了と同時に洗浄すると説明しています。使い終わったあとの手入れまで含めて、運用の手順を決めておいてください。

研究室で装置を選ぶときの順番

研究室での装置選びは、次の順番で進めると無駄が少なくなります。

  1. 磨きたい試料の大きさと材料、目標の表面を決める
  2. 研究のテーマが装置の条件か、消耗品の評価かを決める
  3. 必要な機能（レシピ、インドレス、加圧の範囲）を書き出す
  4. 受託やテスト加工で、一度試料を磨いてみる
  5. 設置の準備を確かめてから、2〜3社に見積を頼む

今回調べた装置メーカーで、製品ページに価格を載せている会社はありませんでした。見積を頼むときは、チラーやポンプなどの別途オプションも含めた額で比べてください。

この記事に出てくるメーカー

参照元

よくある質問

研究室向けの一番小さいCMP装置は？

今回の調査では、Mini-LabのCMP100（ウエハ最大径φ100mm）や、ケメット・ジャパンMAT事業部のチップ基板対応CMP実験装置BC-15CN、ラップジャパンの卓上型LM-15などが小型の機種です。

スラリーやパッドの研究に使える装置は？

ラップジャパンのLM-15はCMPスラリー、パッド、ダイヤモンドドレッサー等の研究開発装置として最適とし、ミクロ技研の研究開発用CMPマシーンはスラリーやパッド、各種基板の評価に最適としています。

買う前に試せますか？

ミクロ技研はデモンストレーションを案内し、北川グレステックは千葉テクニカルセンターで実機を見られます。ケメット・ジャパンMAT事業部は自社ラボでテスト加工を行っています。

【用途別】CMP装置メーカーおすすめ3選

※2026年10月時点の公式サイト情報をもとに編集チームが選定。選定基準。

1イチオシ

研究開発用の装置を、受託でプロセスを試してから選ぶなら

北川グレステック株式会社

卓上型から3インチ〜300mmのCMP実験装置まで。SiC・TSV・ダマシンの受託CMPも同じ会社で

試験・量産用のCMP装置をウェハサイズに合わせて案内し、マニュアルローディングのCMP実験装置は3インチ〜150mm／200mm／300mmをドレス機構付きでそろえる。卓上型は酸性・アルカリ性のあらゆるスラリーに対応。CMP受託加工ではプロセス開発・試作・消耗品評価を請け負い、SiCパワーデバイス、SOI、MEMS、TSV、TGV、ダマシンプロセスの実績を公式に記載。

北川グレステック株式会社の公式サイトへ当サイトの紹介を読む

2

SiC・MEMSなど8インチ以下のデバイスを、開発から量産まで同じ装置で

株式会社東京精密

小型CMP装置ChaMP211は2〜8インチの研磨ヘッドで、R&Dから試作、量産まで拡張可能。300mm機ChaMP332も

ChaMP211は量産ラインで培った技術を載せた小型のCMP装置で、SiCやMEMS、マイクロLED、SAWフィルター等のデバイスに最適と記載。2〜8インチの研磨ヘッドで同じ本体のまま異なるウェーハサイズを研磨でき、ウェーハローダと洗浄ユニットを積んでフルオート動作が可能。エアフロート式ヘッドSylphideと白色光の終点検出を備える。

株式会社東京精密の公式サイトへ当サイトの紹介を読む

3

半導体工場の量産ラインに、スループット重視で入れるなら

株式会社荏原製作所

F-REX300XA型は1テーブル1ヘッドのデュアルモジュール方式。終点検出とインライン膜厚測定はオプション

F-REX型はウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置で、ドライイン／ドライアウト、多段薬液洗浄に対応。F-REX300XA型は新開発の高効率搬送機構とWPH最適化アルゴリズムを搭載し、1テーブル1ヘッド、デュアルモジュール方式、クロスコンタミ対策、改造が容易なモジュール構造を備え、F-REX300X型比で約10％の消費電力削減をうたう。

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研磨したい材料（基板・膜）、ウェハや試料のサイズ、目標の表面粗さや平坦度、処理枚数、装置の購入か受託か、使う場所（研究室・クリーンルーム）を送っていただくと、編集チームが条件に合う掲載会社へ匿名で概要を伝え、見積やテスト加工の窓口をおつなぎします。費用はかかりません。

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